2024年9月28日,由中国光学工程学会主办的首届光显示大会在北京隆重举行。此次大会汇集了来自国内外的顶尖学者和业界专家,旨在探讨显示技术的前沿发展趋势。成都辰显光电有限公司技术总监董小彪博士受邀出席,并在Micro-LED显示专题会议上发表了主题为《Micro-LED技术的机遇与挑战》的演讲,详细阐述了Micro-LED技术的最新发展与前景。
董小彪博士在演讲中指出,Micro-LED显示技术以其自发光、无背光、高亮度和长寿命等特性,被誉为下一代显示技术的核心平台。Micro-LED具有高亮度、高可靠性、低开口率等优势,可以有效解决当前显示技术的局限性。尤其在大尺寸拼接显示和高分辨率需求的领域,Micro-LED技术显示出极强的竞争力,适用于商用显示、高端 TV、消费类电子产品和虚拟现实设备。
然而,Micro-LED显示技术的普及仍然面临多项技术挑战,特别是在巨量转移、TFT背板技术以及真正实现无缝拼接等方面。董博士强调,辰显光电在提高生产良率、显示均匀性、亮度和对比度等关键技术上取得了显著进展。通过自主研发的巨量转移技术,辰显已经成功提升了制造效率,并在无缝拼接技术上实现了突破。公司开发的混合驱动架构技术,确保了TFT基Micro-LED显示屏的高质量输出。
董小彪博士在演讲中还介绍了辰显光电在Micro-LED领域的最新进展。公司率先建立了首条TFT基Micro-LED量产生产线,推动了Micro-LED从实验室技术向商业化落地的飞跃。目前首批设备已顺利搬入,正式进入量产出货的倒计时阶段。该产线计划在年底前实现小批量量产。
董博士进一步展望了Micro-LED在未来显示技术中的核心作用。他表示,随着Micro-LED技术的不断成熟,未来它将在多个行业中发挥重要作用,彻底改变人类的视觉体验,从而为未来显示技术发展提供更多可能性。