韩国设备商Sunic System日前推出了一款全新的基于精细金属掩膜蒸镀(evaporation-FMM)的AMOLED系统,其可实现高分辨率,Sunic表示其可实现2250 PPI。Sunic的新技术采用面源作为蒸镀OLED材料,而非当前采用的线源。如此高分辨率显示屏对于VR应用十分有价值。
Sunic System日前宣布,其通过采用新型面源蒸镀和100μm荫罩成功实现了1.1μm阴影距离,而如此小的阴影距离可实现1000至1500 PPI分辨率。公司的下一步目标是将阴影距离缩减至0.37μm,从而可实现2250 PPI和11K高分辨率移动AMOLED屏。
面源技术是将OLED发光材料沉积在金属板上,反转该金属板后通过加热来垂直地蒸发材料。这使得相当薄且高分辨率的FMM成为可能,进而可用于生产高分辨率OLED。
这种新技术的另一个优点是可沉积高密度(200 PPI)大尺寸OLED。目前FMM自身的衬底尺寸有限,企业需要在OLED沉积前对衬底进行切割。