第21届FINETECH JAPAN、第2届高功能膜技术展FilmTech Japan及第1届Photonix Expo&Conference光综合技术展,2011年4月13日至15日于东京举行,展现全球平面显示技术最新技术发展趋势及产品。
虽然一个月前日本遭受前所未有的自然灾害,整体经济生活与企业运作均受到严重影响,但并不影响业内企业参与此次展会的热情,参展企业与专业观众均仅有小幅下滑。
据主办单位Reed Exhibitions Japan统计,本届展会参与人数达55300人(观众数量,非人次),展出面积42,710平方米,吸引来自全球20多个国家的850家参展厂商。针对展出规模庞大,主办单位2011年特别将LIGHTING JAPAN独立出来并提前于1月举行,4月中的展会则以FINETECH JAPAN、高功能薄膜技术展FilmTech Japan及Photonix Expo&Conference光综合技术展为主,以期兼顾展会扩大与深入专业化发展的目标。
本届展会专设触摸屏展区和3D技术展区,以凸显平板显示领域最热门的技术潮流,而技术研讨会部分,则对OLED技术着墨甚多。
FINETECH JAPAN成为世界平板显示领域最重要展会的关键,在于主办单位Reed Exhibitions Japan对参展厂商均亲自拜访,并邀请领导大厂的关键人物及技术研发人员共同参与,及促进参与厂商深入互动等市场撮合机会,协助参展厂商创造最大商机。如今年展会新增设的“高功能薄膜展区”、“3D显示区”、“纳米压印技术展”、“触摸屏技术区”,均说明展会积极创新及满足产业与市场需求的努力成效。