分析师：日本微影设备厂商面临生存危机

    投资银行野村证券(Nomura)的市场分析师指出，超紫外光微影(EUVL)俨然已成为下一代IC制程的主流接班技术，但日本微影设备业者在此方面的研发脚步，却落后欧洲厂商ASML甚多；不过该银行分析师认为，面临被市场淘汰危机的日本微影设备厂商，若可透过某种国家支持政策形式来凝聚产业力量，仍为时未晚──因为包括Nikon在内的业者恐怕无法独力负担所需的技术研发支出。

    野村证券的分析师已经针对各种微影接班技术进行研究，所得出的结论是，尽管EUVL在2015~2016年全面量产之前，还得克服动力来源、光罩与检查方面的挑战，但仍是最具潜力的一种微影技术。而事实上，跟目前的氩氟浸润式193奈米微影双重图形(double-patterning)相较，EUVL所面临的问题还比较少。

    “根据那些最积极微缩制程的NAND闪存制造商说法，EUVL是下一代微影技术的最佳选项，他们并不想用双重图形技术(DPT)。”野村证券分析师表示，主要原因是DPT制程不但复杂度较高，也会导致低吞吐量、制程不可靠性以及带来高成本的低良率。

    此外，利用了密集运算的像素化相位移光罩(xilatedphase-shiftmasks)之反转式微影技术(Inverselithographytechnology，ILT)，据说与英特尔正运用该技术与氩氟浸润式微影，微缩至11奈米制程；但野村证券分析师认为，那只是当前现有技术暂时性的扩充应用。

    还有奈米压印微影(Nanoimprintlithography，NIL)亦颇具潜力，甚至可微缩至10奈米制程，但主要适用微机电系统(MEMS)与光学组件。电子束微影(E-beamlithography)虽已经用以生产原型组件，但要达到大量生产仍有难以突破的障碍。至于利用不同聚合物架构的自动组装(self-assembly)技术，应用范围则非常狭窄。

    野村证券预测，EUVL设备市场在2010年与2011年将分别达到50亿日圆(约6,000万美元)、250亿日圆(约3亿美元)的规模，到了2015与2016年，该市场可望进一步扩充至1,600亿日圆(约19亿美元)与2,000亿日圆(约24亿美元)的规模，并在2018年达到3,000亿日圆(35亿美元)。

    日本厂商Canon是全球首家推出商业化EUVL设备的供货商，但该公司已经停止开发这类设备；另一家日本厂商Nikon的相关进展则远远落后欧洲业者ASML。目前ASML是唯一的EUVL设备供货商，该公司一台步进机(stepper)的售价高达4,000万~4,500万欧元(约5,000万~6,000万美元)。

    野村分析师预言，在接下来的五年内，ASML将独霸EUVL步进机市场；其他因EUVL技术而受惠的厂商包括相关零件供货商Ushio、Lasertec与Hoya。而由于ASML在EUVL系统开发上的领导地位，日本厂商恐怕将失去在先进半导体微影技术领域的优势；对此野村分析师建议，日本需要推动一个全国性且联合整个产业的研发计划。(参考原文：Analyst:Japan’slithofirmsfaceextinction，byPeterClarke)